>>>产品描述>>>

     新型OE720是OES金属分析仪。 它涵盖了金属中所有元素的光谱，并且具有同类产品中最低的检测限。
     OE720包括先进的半导体检测器和新的光学概念（四项专利）。 这使Hitachi OES分析仪具有同类产品中高的光学分辨率，因此您不必在高性能和低成本之间进行选择。
     OE720设计用于高度分析和可靠的性能。 扩展的波长范围和优化的等离子体耦合保证了对重要元素（例如钢中的氮，铝中的磷）的精确识别和痕量分析。 可以安全地分析合金元素以及痕量和不需要的元素，并且检出限在最低ppm范围内。
紧凑而坚固的设计使OE720几乎可以安装在任何工业环境中

>>>工作原理>>>

     数控激励源在样品和电极之间产生强大的放电。放电使表面上的一小部分样品材料熔化，蒸发并激发它在等离子体中发光。火花塞已用氩气冲洗过。氩气气氛可防止样品表面氧化，并使几乎所有的放电能量都在连接阴极的样品上转化。特征光（例如，铁类材料的蓝色）包含有关元素及其在样品中的含量的光谱信息。
     在火花架中产生的光被引导到衍射光栅上，并被该光栅分解成其光谱分量。波长较长的光比波长较短的光偏转（“衍射”）的强度更大。结果是可以使用光敏检测器测量的样品的发射光谱。 OE720使用具有高灵敏度和长寿命的光学传感器。光学系统在即使在约200 nm以下也能保证透明的介质中工作。
     动态CMOS检测器的创新使用以及光学系统与火花架的直接连接确保了174 nm至766 nm波长范围内的光强度。该范围涵盖了从氮到铀的所有元素，可以进行完整的金属分析。到目前为止，这种性能范围仅在高端范围内提供。凭借创新的技术以及较低的氩气和功耗，OE720是满足高要求的经济高效的替代产品。
     完整频谱的记录需要一个快速读取系统，该系统可以快速处理大量数据。从发射光谱获得的光强度使用仪器中存储的校准曲线转换为内含物。
此信息显示在屏幕上并进行进一步处理（质量检测（PMI），监视过程控制的限制等）。
OE720为此使用了一个特殊的处理器，它可以同时评估多达16个独立的传感器，从而可以使用DIA（动态集成算法）进行精确的分析。

>>>Sparcfire软件>>>

     SpArcfire是一款现代操作软件，具有适用于固定式Hitachi High-Tech高科技光发射光谱仪（OES）的最新用户界面。该软件旨在满足冶金专家的要求，但其直观性足以让经验不足的用户进行操作，这意味着您无需大量培训即可快速获得结果。该体系结构是基于插件的–现在就准备好并适合将来。
     您无需成为冶金专家即可进行分析。只需单击一下即可创建首选视图-水平或垂直。同样，抑制元素，使其独立于显示器，打印机和存储格式重新排序也很简单。从预先安装的公式库中添加，编辑和选择公式非常容易。
通过一些简单而全面的步骤，您可以：
•分析未知材料。
•使用日立GRADE数据库搜索和验证成绩。
•只需单击几下即可创建定制的报告模板。
•使用向导执行非常规任务。
•使用对照样品执行和评估准确性测试。
•对于高级用户：修改回归数据以扩展校准范围

>>>牌号数据库>>>

GRADE数据库是大的金属数据库。它已预安装在日立高科技光发射光谱仪（OES）上，具有超过1500万条记录，适用于近350,000种金属等级。
通过一些简单而全面的步骤，您可以：
•分析未知材料。
•使用日立GRADE数据库搜索和验证成绩。
•只需单击几下即可创建定制的报告模板。
•使用向导执行非常规任务。
•使用对照样品执行和评估准确性测试。
•对于高级用户：修改回归数据以扩展校准范围。
FP-LIMS：
     在当今的实验室环境中，越来越多的测试和越来越多的文档要求。还需要根据原始数据快速生成证书或使用决策。现代化的[FP] -LIMS实验室软件解决方案具有突破性的灵活性，可以完成这些任务，并且多年来在集中式和分散式实验室中都取得了成功。在这里，主要支持中央测试处理，其中工作流程将以较佳方式自动化或以减少的人工步骤进行。
     FP-LIMS可以节省您的时间，节省成本，并通过避免错误来确保高质量，一致的质量。这将是您的竞争优势。当然，[FP] -LIMS可以适应您的流程，并轻松快速地集成到您的公司中。无论是用作实验室软件还是用作“数据收集器”。
     FP-Lims的基本版本已预先安装在您的设备上。